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Semitron® MPR 1000

Allgemeine Produktkreise: Polyamid-imidGeliefert von: Mitsubishi Chemical Advanced Materials
Semitron® MPR 1000 shapes possess excellent heat resistance and low rates of erosion in plasma chambers. Due to these characteristics, it is often chosen for vacuum chamber applications within etch, CVD, and ion implant sub segmentations in the semiconductor and electronics industry.
Allgemeine Eigenschaften

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Materialstatus
Kommerziell: Aktiv
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Technical Datasheet (English)

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Verfügbarkeit
Afrika und Mittlerer Osten, Asien Pazifik, Europa, Lateinamerika, Nordamerika
Einsatz
Elektrisch Anwendungen
Andere Eigenschaften
Merkmale, Aussehen, Dichte / Spezifische Dichte, Dichte, Wasserabsorption @ 24 Std., Wasseraufnahme 24h/23C, Wasserabsorption gesättigt, Wasseraufnahme bis zur Sättigung/23 °C, Zug-E-Modul, Zug-E-Modul, Zugfestigkeit, Zugfestigkeit, Bruchdehnung, Bruchdehnung, Biege-E-Modul, Biegefestigkeit, Drucksteifigkeit, Druckbeanspruchung, Scherfestigkeit, Charpy-Kerbschlagzähigkeit (+23°C), Charpy-Schlagzähigkeit, ungekerbt, Izod-Kerbschlag, Rockwellhärte, Rockwellhärte, DTUL (264 psi) - ungeglüht, DTUL (1,80 MPa) ungeglüht, Glasübergangstemperatur, Glasübergangstemperatur, CLTE, fließrichtung (TMA), Linearer Wärmeausdehnungskoeffizient, längs zur Fließrichtung, Wärmeleitfähigkeit, Spez. Oberflächenwiderstand, dielektrische Durchschlagsfestigkeit, Dielektrizitätskonstante, Dielektr. Verlustfaktor, Entflammbarkeitsklasse - UL, Weitere Eigenschaften
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Verarbeitung

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Bezugsquellen

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