Semitron® MPR 1000

Familia genérica: Polyamide-imide • Suministrado por: Mitsubishi Chemical Advanced Materials

Semitron® MPR 1000 shapes possess excellent heat resistance and low rates of erosion in plasma chambers. Due to these characteristics, it is often chosen for vacuum chamber applications within etch, CVD, and ion implant sub segmentations in the semiconductor and electronics industry.

Propiedades generales

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Estado del material

Comercial: Activo

Documentos

Technical Datasheet (English)

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Disponibilidad

África y Oriente Medio, Asia-Pacífico, Europa, Latinoamérica, Norteamérica

Usos

Aplicaciones eléctricas/electrónicas

Otras propiedades

Características, Aspecto, Densidad / Gravedad específica, Densidad, Absorción de agua @ 24 h., Absorción de agua 24 h/23°C, Absorción de agua @ sat., Absorción de agua Sat/23°C, Módulo de tensión, Módulo de tensión, Tensión, Resistencia a la tracción, Elongación en el Punto de Ruptura, Deformación por tracción en la Ruptura, Módulo de Flexión, Resistencia a la flexión, Resistencia a la compresión, Esfuerzo de compresión, Resistencia al corte, Fuerza de Impacto Charpy Notched, Resistencia al impacto Charpy sin entalle, Resistencia al Impacto Izod con ranura, Dureza Rockwell, Dureza Rockwell, DTUL (264 psi) - no recocido, DTUL (1.80 MPa) no recocido, Temperatura de transición vítrea, Temperatura de transición vítrea, Coeficiente de dilatación térmica lineal (CLTE), flujo (TMA), Coeficiente de expansión térmica lineal, flujo, Conductividad térmica, Resistividad superficial, Resistencia dieléctrica, Constante dieléctrica, Factor de disipación, Ranking de Llama, Propiedades adicionales

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