Chemraz 657

Familia genérica: Perfluoroelastomer • Suministrado por: Greene, Tweed & Co.

Specifically developed to meet the demands of aggressive dry plasma systems, Chemraz ® 657 perfluoroelastomer’s unique formulation provides enhanced plasma resistance and minimal contamination, resulting in less downtime and higher wafer processing yields. Recommended primarily for both static and dynamic oxide etch wafer processing applications, Chemraz ® 657 remains stable at service temperatures up to 536°F (280°C) with excursions to 572°F (300°C).

Propiedades generales

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Estado del material

Comercial: Activo

Documentos

Technical Datasheet (English)

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Disponibilidad

Norteamérica

Usos

Sellos

Otras propiedades

Formas, Densidad / Gravedad específica, Resistencia a la tracción al 50%, Resistencia a la tracción al 100%, Tensión, Elongación en el Punto de Ruptura, Punto de Compresión, Dureza, Propiedades adicionales

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Procesando

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