Chemraz 663
Chemraz ® 663, a perfluoroelastomer (FFKM), is engineered to withstand low-temperature Etch and Deposition applications where plasma resistance and the ability to maintain sealing force in a vacuum are critical, such as electrostatic chuck assemblies.
一般的な属性
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材料ステータス
供給可能
ドキュメント
description
Technical Datasheet (English)
ドキュメントのダウンロード可用性
北アメリカ
用途
半導体成形樹脂
その他の属性
特徴, 外観, 密度 / 比重, 引張応力 50%, 引張り応力100%, 引張り強度, 破断伸び, 圧縮セット, デュロメーター硬度, ガラス転移温度, CLTE、流動（TMA), その他の特性
加工
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